合肥半导体超纯水设备-EDI高纯水制取设备厂家

超纯水设备反渗透膜化学清洗后的冲洗，要用清洁水（一般采用反渗透的产品水或至少是软化后的去离子水）进行低压冲洗。先排放并冲洗药液箱，再用清洁水完全注满清洗箱以作冲洗之用。从清洗箱中泵入所有的冲洗水冲洗反渗透膜压力容器至排放。如果需要，可进行第二次清洗。一旦RO系统已用清洗箱中的清洁水完全冲洗后，就可用预处理给水进行低压冲洗。给水压力应低于60psi（4bar），冲洗持续进行直至冲洗水干净，且不含任何泡沫和清洗剂残余物。通常这需要15-30分钟左右甚至更长。操作人员可用干净的烧瓶取样，摇匀，监测排放口处冲洗水中洗涤剂和泡沫的残留情况。洗液的去除情况可用测试电导的方法进行，如冲洗水至排放出水的电导在给水电导的10~20%以内，可认为冲洗已接近终点；pH表或试纸也可用于测定，来比较冲洗水至排放出水与给水的pH值是否接近。一旦所有级段已清洗干净，且化学药剂也已冲洗掉，纯水设备可重新开始置于运行程序中，但初始的产品水要进行排放并监测，直至RO产水可满足工艺要求（电导、pH值等）。为得到稳定的RO产水水质，这一段恢复时间有时需要从几小时到几天，尤其是在经过高pH清洗后。超纯水设备整体自动化程度高，遇故障立即自停，具有自动保护功能。合肥半导体超纯水设备-EDI高纯水制取设备厂家

超纯水设备预处理系统活性炭的选型。好的活性炭必须具有吸附容量大、使用寿命长、机械强度高、灰份低、易冲洗、出水水质好等特点，它不但能除去异臭、异味、色度，对水中的各种有毒有害物质如：氯、酚、汞、铅、砷、氯化物、洗涤剂、农药、化肥等污染物具有很高的去除率。具体主要技术指标如下：1、粒度（10—24目）≥95%，说明：通常来说，颗粒越小的活性炭，比表面积越大吸附效果越好，颗粒越小，损耗也会越大，粉尘也会越多。2、碘吸附值：≥1000mg/g，说明：一般来说碘吸附值越高，活性炭的吸附能力越强。3、比表面积：1000---1200m2/g说明：若取1克活性炭，将里面所有的孔壁都展开成一个平面，这个面积将达到1000平方米（既比表面积为1000g/m2）！影响活性炭吸附性的主要因素就取决于内部孔隙结构的发达程度。（既比表面积越大，活性炭的吸附效果越好）。4、耐磨强度：≥95%说明：即耐磨损或抗磨擦的性能；强度越高，活性炭性能越好。5、灼烧残渣：≤3%说明：灼烧残渣及指灰分，此值越低，活性炭质量越好。6、充填比重：指密度，一般密度越小，活性炭的吸附力越好。品质好的活性炭能较好地保护反渗透膜和EDI系统，延长设备的使用寿命，能提高产水的品质。合肥半导体超纯水设备-EDI高纯水制取设备厂家

如果使用自来水，水中的钙镁离子、杂质、无机物离子等会逐渐带入到电镀槽，并在电镀溶液中积累，当积累到一定量之后，会严重影响电镀层的外观质量和内在的防腐蚀性能，并且容易产出不合格的产品，降低合格率。纯水才能彻底清洗干净电镀产品。行业中，电镀小件清洗工艺用水的要求更加高，因为经粗化后的工件表有大量的微孔，敏化工艺前的水洗必须使用纯水，水洗还要增加一定的过滤设施，防止水洗水中间的颗粒物在化学镍溶液中形成“自催化中心”，快速恶化化学镍镀液，或者影响电镀质量。对于一些装饰性、外观要求比较高的表面处理行业，用水要求也非常高，特别是产品电镀后的水洗必须使用混床离子交换器处理后的超纯水作为清洗水，电导率低于1us/cm2，彻底清洗工件残余的电镀液和其他杂质。电镀行业超纯水设备工艺流程：自来水原水→原水增压泵→砂过滤器→炭过滤器→软化器(根据地区不合选用)→保安过滤器→RO高压泵→RO反渗透系统→RO水箱→纯水加压泵→离子树脂混床→终端紧密过滤→设备用水（超纯水水质可以达到16MΩ.cm）。某些重金属如铬会对氯的氧化起到催化作用，进而引起膜片的不可逆性能衰减，造成膜的损坏。合肥半导体超纯水设备-EDI高纯水制取设备厂家