氮化硅陶瓷质量好报价

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联系人：郭小航
手机号： 0571-82682780
成立日期： 2011-04-19

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氮化硅陶瓷质量好
氮化硅陶瓷概述 本公司引进高科技氮化硅陶瓷制造技术的基础上按照国家标准生产的氮化硅陶瓷,以高纯氮化硅粉为原料，利用干压及等静压成型技术（得到理想的氮化硅陶瓷坯体密度），经1600℃以上高温烧结获得高密度、高强度氮化硅陶瓷制品。可广泛应用于机械、冶金、化工、航空、半导体等工业上作为作某些设备或产品的零部件，取得了很好的预期效果。近年来，随着制造工艺和测试分析技术的发展,氮化硅陶瓷等氮化硅陶瓷制品的可靠性不断提高，因此应用面在不断扩大。
<IMG src=""> 氮化硅陶瓷特点 1、工艺优良:氮化硅陶瓷采用高纯氮化硅粉为原料，利用干压及等静压成型技术，经高温烧结具有高强度，硬度，致密度。流延成型
流延成型(Tape casting)是薄片陶瓷材料的一种重要成型方法，产能高、自动化程度高，但烧成收缩率高达20-21%，可制备厚度为10-1000μm的陶瓷薄膜。小米5手机陶瓷外壳和多款手机陶瓷指纹盖板均采用流延成型工艺。
流延成型工艺过程包括：
1)将陶瓷粉末与添加剂在有机溶剂中混合，形成悬浮的浆料。
2)成型时浆料从料斗下部流至基带之上，通过基带与刮刀的相对运动形成坯膜，坯膜的厚度由刮刀控制。
3)坯膜连同基带一起送入烘干室，溶剂蒸发，形成具有一定强度和柔韧性的坯片。 2、性能稳定:氮化硅陶瓷具有的耐磨，耐高温，耐腐蚀性。反应烧结法(RS)
是采用一般成型法,先将硅粉压制成所需形状的生坯,放入氮化炉经预氮化(部分氮化)烧结处理,预氮化后的生坯已具有一定的强度,可以进行各种机械加工(如车、刨、铣、钻). 后,在硅熔点的温度以上;将生坯再一次进行完全氮化烧结,得到尺寸变化很小的产品(即生坯烧结后,收缩率很小,线收缩率< 011% ). 该产品一般不需研磨加工即可使用。反应烧结法适于制造形状复杂,尺寸的零件,成本也低,但氮化时间很长。
热压烧结法(HPS)
是将氮化硅粉末和少量添加剂(如MgO、Al2O3、MgF2、Fe2O3 等),在1916 MPa以上的压强和1600 ℃以上的温度进行热压成型烧结。英国和美国的一些公司采用的热压烧结氮化硅陶瓷,其强度高达981MPa以上。烧结时添加物和物相组成对产品性能有很大的影响。由于严格控制晶界相的组成,以及在氮化硅陶瓷烧结后进行适当的热处理,所以可以获得即使温度高达1300 ℃时强度(可达490MPa以上)也不会明显下降的氮化硅系陶瓷材料,而且抗蠕变性可提高三个数量级。若对氮化硅陶瓷材料进行1400———1500 ℃高温预氧化处理,则在陶瓷材料表面上形成Si2N2O相,它能显著提高氮化硅陶瓷的耐氧化性和高温强度。热压烧结法生产的氮化硅陶瓷的机械性能比反应烧结的
氮化硅要,强度高、密度大。但制造成本高、烧结设备复杂,由于烧结体收缩大,使产品的尺寸精度受到一定的限制,难以制造复杂零件,只能制造形状简单的零件制品,工件的机械加工也较困难。 3、应用广泛：氮化硅陶瓷可广泛应用于机械、冶金、化工、航空、半导体等工业上作为作某些设备或产品的零部件。高纯氮化硅粉体生产简单流程
原料：高纯硅粉，高纯氮气(纯度>99.99%)，去离子水设备：高温常压卧式气氛炉，立式球磨机，普通混料机，普通鄂式破碎机，干燥设备。
终产品：高纯氮化硅粉
生产简单流程：
（1）高纯氮化硅粉装入卧式气氛炉，通入氮气，通约数小时，开始升温，升到一千多度开始保温，保温数小时之后，关闭阀门，关闭氮气。继续保温数小时，出炉。上述过程保持常压。
（2）保温结束，降温至室温，打开炉盖，取出氮化硅块，用普通鄂式破碎机破碎至20－60目。
（3）将20－60目氮化硅粉，加入球磨机，再加入等质量的水，球磨数小时，分离得到更细的氮化硅粉，放入干燥设备烘干，包装。上述生产过程，原料均为环境友好材料，产品也为普通陶瓷产品为无害产品。向环境中排放主要为少量多余高纯氮气，由于氮气是大气主要组成部分，对环境。
<IMG src=""> 我们的氮化硅陶瓷产品优势 质量稳定：实行全过程质量监控，细致入微，检测！ 价格合理：内部成本控制，减少了开支，有利于客户！ 交货快捷：生产流水线，充足的备货，缩短了交货期！ 氮化硅陶瓷实拍图 氮化硅陶瓷选型手册 面对市场上各式各样的陶瓷材料，比如氧化铝陶瓷，氧化锆陶瓷，氮化硅陶瓷，碳化硅陶瓷，氮化铝陶瓷，氮化硼陶瓷等工业陶瓷。很多客户会感到忙绕。目前市面上的陶瓷产品选型手册和选型标准一般是按照材料的性能和应用来分类。 氮化硅陶瓷Si 3N 4陶瓷的制备方法
氮化硅陶瓷的制备技术发展很快 , 由于 Si 3N 4是强共价化合物 , 其扩散系数、致密化所的体积扩散及晶界扩散速度、烧结驱动力很小 , 这决定了纯氮化硅不能靠常规固相烧结达到致密化。目前氮化硅陶瓷烧结工艺方法主要有 :常压烧结、反应烧结、热压烧结、气压烧结等。
1常压烧结
常压烧结是以高纯、超细、高 α相含量的氮化硅粉末与少量助烧剂混合 , 通过成形、烧结等工序制备而成。由于常压烧结法很难制备高密度的纯氮化硅材料 , 为了获得的氮化硅材料 , 需要加入助烧剂与 Si 3N 粉体表面的 SiO 2反应 , 在高温下形成液相 , 活化烧结过程 , 通过溶解析出机制使其致密。因此 , 常压烧结 Si 3N 4研究的关键在于选择合适的助烧剂。目前常用的助烧剂主要有 :MgO 、 Y 2O 3、稀土元素氧化物、复合助烧剂等 , 这些助烧剂能控制液相粘度 , 提高相转变 , 防止固溶体形成 , 降低晶格氧含量并控制玻璃相组成和含量。
2反应烧结
反应烧结是把硅粉或硅粉与氮化硅粉的混合物成形后 ,在 1200℃ 左右通氮气进行预氮化处理 , 之后机械加工成所需零件 , 后在 1400℃ 左右进行终氮化烧结。其主要反应有 :
3Si+2N2=Si 3N 4(1)
在反应炉中 , 随着炉温的不断升高 , 氮气的活性增强 , 当达到一定温度 1100~1200℃ 时 , 氮气和硅粉发生 (1) 式反应 , 反应放出能量并传给周围硅原子 , 使之活化并继续反应 , 随着反应不断深入坯体内部 , 硅粉也不断氮化生成氮化硅。

2.3热压烧结
热压烧结是将 Si 3N 粉末和少量添加剂 (如 MgO 、 Al 2O 3、MgF 2、 Fe 2O 3等 ) 在 19.6MPa 以上的压强和 1600℃ 以上的温度进行热压成型烧结。英国和美国的一些公司采用热压烧结Si 3N 4陶瓷 , 其强度达到 981MPa 以上。热压烧结时添加物和氮化硅陶瓷的制备及性能研究进展. 氮化硅陶瓷利用氮化硅重量轻和刚度大的特点，可用来制造滚珠轴承、它比金属轴承具有更高的精度，产生热量少，而且能在较高的温度和腐蚀性介质中操作。用氮化硅陶瓷制造的蒸汽喷嘴具有耐磨、耐热等特性，用于650℃锅炉几个月后无明显损坏，而其它耐热耐蚀合金钢喷嘴在同样条件下只能使用1 - 2个月.由中科院上海硅酸盐研究所与机电部上海内燃机研究所共同研制的氮化硅电热塞，解决了柴油发动机冷态起动困难的问题，适用于直喷式或非直喷式柴油机。这种电热塞是当今、理想的柴油发动机点火装置。日本原子能研究所和三菱重工业公司研制成功了一种新的粗制泵，泵壳内装有由11个氮化硅陶瓷转盘组成的转子。由于该泵采用热膨胀系数很小的氮化硅陶瓷转子和精密的空气轴承，从而无需润滑和冷却介质就能正常运转。如果将这种泵与超真空泵如涡轮———分子泵结合起来，就能组成适合于核聚变反应堆或半导体处理设备使用的真空系统。
以上只是氮化硅陶瓷作为结构材料的几个应用实例，相信随着氮化硅粉末生产、成型、烧结及加工技术的改进，其性能和可靠性将不断提高，氮化硅陶瓷将获得更加广泛的应用。由于氮化硅原料纯度的提高，氮化硅粉末的成型技术和烧结技术的迅速发展，以及应用领域的不断扩大，氮化硅正在作为工程结构陶瓷，在工业中占据越来越重要的地位。氮化硅陶瓷具有的综合性能和丰富的资源，是一种理想的高温结构材料，具有广阔的应用领域和市场，都在竞相研究和开发。陶瓷材料具有一般金属材料难以比拟的耐磨、耐蚀、耐高温、抗氧化性、抗热冲击及低比重等特点。可以承受金属或高分子材料难以胜任的严酷工作环境，具有广泛的应用前景。成为继金属材料、高分子材料之后支撑21世纪支柱产业的关键基础材料，并成为为活跃的研究领域之一，当今都十分重视它的研究与发展，作为高温结构陶瓷家族中重要成员之一的氮化硅陶瓷,较其它高温结构陶瓷如氧化物陶瓷、碳化物陶瓷等具有更为的机械性能、热学性能及化学稳定性. 因而被认为是高温结构陶瓷中有应用潜力的材料。
氮化硅陶瓷订购注意事项 1、此产品不支持网上订购，由于氮化硅陶瓷产品大多数属于非标定制件，如您需要订购氮化硅陶瓷产品请随时致电联系我们，我们一定会尽心尽力为您提供的服务。电话：  2、①需要提供图纸或者样品。②需要告知订购数量③需要告知应用场合及对产品的技术要求④使用温度⑤使用介质⑥其他要注意的事项。 3、如有特殊要求时请在订购产品时注明。 4、当使用的场合非常重要或者环境比较复杂时，请尽量提供设计图纸。
氮化硅陶瓷使用注意事项 氮化硅陶瓷属于硬脆材料，在材料的加工使用过程中应注意： Si 3N 4陶瓷的制备方法
氮化硅陶瓷的制备技术发展很快 , 由于 Si 3N 4是强共价化合物 , 其扩散系数、致密化所的体积扩散及晶界扩散速度、烧结驱动力很小 , 这决定了纯氮化硅不能靠常规固相烧结达到致密化。目前氮化硅陶瓷烧结工艺方法主要有 :常压烧结、反应烧结、热压烧结、气压烧结等。
1常压烧结
常压烧结是以高纯、超细、高 α相含量的氮化硅粉末与少量助烧剂混合 , 通过成形、烧结等工序制备而成。由于常压烧结法很难制备高密度的纯氮化硅材料 , 为了获得的氮化硅材料 , 需要加入助烧剂与 Si 3N 粉体表面的 SiO 2反应 , 在高温下形成液相 , 活化烧结过程 , 通过溶解析出机制使其致密。因此 , 常压烧结 Si 3N 4研究的关键在于选择合适的助烧剂。目前常用的助烧剂主要有 :MgO 、 Y 2O 3、稀土元素氧化物、复合助烧剂等 , 这些助烧剂能控制液相粘度 , 提高相转变 , 防止固溶体形成 , 降低晶格氧含量并控制玻璃相组成和含量。
2反应烧结
反应烧结是把硅粉或硅粉与氮化硅粉的混合物成形后 ,在 1200℃ 左右通氮气进行预氮化处理 , 之后机械加工成所需零件 , 后在 1400℃ 左右进行终氮化烧结。其主要反应有 :
3Si+2N2=Si 3N 4(1)
在反应炉中 , 随着炉温的不断升高 , 氮气的活性增强 , 当达到一定温度 1100~1200℃ 时 , 氮气和硅粉发生 (1) 式反应 , 反应放出能量并传给周围硅原子 , 使之活化并继续反应 , 随着反应不断深入坯体内部 , 硅粉也不断氮化生成氮化硅。

2.3热压烧结
热压烧结是将 Si 3N 粉末和少量添加剂 (如 MgO 、 Al 2O 3、MgF 2、 Fe 2O 3等 ) 在 19.6MPa 以上的压强和 1600℃ 以上的温度进行热压成型烧结。英国和美国的一些公司采用热压烧结Si 3N 4陶瓷 , 其强度达到 981MPa 以上。热压烧结时添加物和氮化硅陶瓷的制备及性能研究进展.

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