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石英粉是用纯石英（天然石英或熔融石英）经破碎、拣选、清洗、酸处理、高温熔化、中碎、细磨、分级、除铁等多道工序加工而成的符合使用要求的粉体。石英粉分干法和水法两种生产方式，各种常规规格：100M，150M，200M，325M，400M，600M，1500M及2000M(M为目数)。另外也可按客户要求加工异型规格，要求粒度分布的一般也可加工。石英粉不分等级，只分规格。因其具备白度高，无杂质、铁量低等特点，故应用范围广。
用途：制造玻璃，耐火材料(炉料），冶炼硅铁，涂料，橡胶填料，冶金熔剂，陶瓷，研磨材料，金属表面处理等方面，在建筑中利用其有很强的抗酸性介质浸蚀能力，制取耐酸混凝土及耐酸砂浆。
石英粉分干法和水法两种生产方式:
1、干法生产石英粉，主要设备有磕石机、粉碎机、振动筛等。其工艺流程为石英石矿料经过磕石机加工成较小石料，石料再经过粉碎机加工砂粒，然后经过振动筛筛分，在筛分过程中利用磁铁棒和排磁铁除铁，然后分装完毕入库。
2、水法生产石英粉，主要设备有磕石机、石碾、烤房、振动筛、水路系统等。
其工艺流程大致如下：石英石矿料经过磕石机加工成较小石料，石料再经过石碾碾压成砂粒，碾压时不停的加水，水带着砂粒流入沉淀池内，再把沉淀池内的砂粒运入烤房烘烤成干砂粒，然后再经过振动筛筛分，在筛分过程中利用磁铁棒和排磁铁除铁，然后分装完毕入库。
优良的自然石英,经由过程怪异的低温处置工艺加工而构成的粉末,重钙粉使其份子布局分列由有序分列转为无序分列.其色白,纯度较高、活动机能好、并具备如下机能:
一、精良的光学性子:方石英的折射率从石英的1.55降低到1.48,更靠近PE、PP及一些树脂的折射率.夹杂后的树脂呈通明状,不粉饰颜料自己的色采,而用别的填料添补则会使颜料的色采变浅、失真.
二、反射率:方石英的详细布局有助光反射,可代替玻璃微珠作反光油漆,既可加强防滑性,又可进步油漆的反光性.
三、白度,低密度、光彩亮光:方石英的白度达95%以上,在涂料、油漆中使用,可代替部门钛白粉,低落配方本钱.
四、抗腐化,耐刻画、耐擦洗、耐磨机能好.
五、不含有机物净化,金属含量极低:可加强涂料的抗紫内线本领,并具备精良的绝缘性、精良的电磁辐射性和低的介电常数.
六、精良的抗热震性.方石英受热220m240℃左右时,产生必定水平的热收缩,恰好抵偿环氧树脂、石膏等在此温度下固化反响时的紧缩,使浇注体不变形.
七、极低的热收缩系数、抗积淀性好、抗腐化性好.
利用行业:电子质料、高功效环氧树脂、紧密锻造、电瓷、电子晶片打磨、抛光质料、珠宝行业、特种陶瓷质料、特种耐火质料、造纸、涂料油漆涂料、紧密模具、屏障质料行业,日用化工,粘合剂,塑料,PTC质料、航空、航天、齿科质料和硅橡胶等中填料,各种产业庇护涂料、木器、粉末涂料、油墨及其余功效性利用
石英粉、石英砂、硅微粉水分含量,根据相关标准，石英砂（微硅粉）水分含量如下:
1.超纯石英砂含水量≤5%
2.高纯度石英砂≤5%
3.特纯石英砂≤5%
4.低铁石英砂≤8%
5.精制石英砂≤8%
6.普通石英砂≤8%
7.球形二氧化硅微粉水分0.05～0.1%
8.电炉回收二氧化硅微粉水分
SF96≤1%,SF93≤2%,SF90≤2.5%,SF88≤3%,SF85≤3%
石英粉、石英砂、硅微粉水分含量检测方法：
1.烘箱法 2.快速水分仪测定法
胶水填充料用的石英粉可以依照结晶与否，分成结晶型石英粉（CAS：14464-46-1）与非结晶型（不定型）石英粉（CAS：60676-86-0）。前者价格较低，导热系数较高；后者热膨胀系数较低，尺寸安定性较佳。结晶型石英粉大多是从天然的石英矿中开采获得的；非结晶型（不定型）石英粉是将结晶型石英粉在高温中融化，再快速降温淬火所得到的，所以又称为熔融型石英粉。这两种石英粉又会因为形状的不同而有不规则状或者是球状等种类。前者吸油量较大，具有抗龟裂特性；后者吸油量较低，能够获得很大的填充量。
超细石英粉可以达到3000目，国内少数几家生产，此类产品应用基本都属于精细化工，属于战略资源。石英粉具体介绍如下：
由高纯石英粉经的超细研磨工艺加工而成的产品我们一般称之为硅微粉，也可称为超细石英粉,是用途极为广泛的无机非金属材料.具有介电性能、热膨胀系数低、导热系数高、悬浮性能好等优点.因其具有优良的物理性能、的化学稳定性、特的光学性质及合理、可控的粒度分布。
硅微粉是由天然石英（SiO2）或熔融石英（天然石英经高温熔融、冷却后的非晶态SiO2）经破碎、球磨（或振动、气流磨）、浮选、酸洗提纯、高纯水处理等多道工艺加工而成的微粉。
微硅粉的生产方法主要有：
，三氯氢硅法将干燥的硅粉加入合成炉中，与通入的干燥氯化氢气体在280～330℃有氯化亚铜催化剂存在下进行氯化反应，反应气体经旋风分离除去杂质，再用氯化钙冷冻盐水将气态三氯氢硅冷凝成液体，经粗馏塔蒸馏和冷凝，除去高沸物和低沸物，再经精馏塔蒸馏和冷凝，得到精制三氯氢硅液体。纯度达到7个“9”以上、杂质含量小于1×10-7，硼要求在0.5×10-9以下。提纯后的三氯氢硅送入不锈钢制的还原炉内，用超纯氢气作还原剂，在1050～1100℃还原成硅，并以硅芯棒为载体，沉积而得多晶硅成品。
第二，用SiO2含量大约为95%的硅石和灰分少的焦炭混合，加热到1900℃左右进行还原。此方法制得的硅纯度为97%～98%，被称作金属硅。再将金属硅融化后进行重结晶，用酸除去杂质，得到纯度为99.7%～99.8%的金属硅。如要将它做成半导体用硅，还要将其转化成易于提纯的液体或气体形式，再经蒸馏、分解过程得到多晶硅。如需得到高纯度的硅，则需要进行进一步的提纯处理。
第三， 用SiO2含量大约为95%的硅石和灰分少的焦炭混合，用1000～3000kVA开式电弧炉，加热到1900℃左右进行还原。
