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石英粉是用纯石英（天然石英或熔融石英）经破碎、拣选、清洗、酸处理、高温熔化、中碎、细磨、分级、除铁等多道工序加工而成的符合使用要求的粉体。石英粉分干法和水法两种生产方式，各种常规规格：100M，150M，200M，325M，400M，600M，1500M及2000M(M为目数)。另外也可按客户要求加工异型规格，要求粒度分布的一般也可加工。石英粉不分等级，只分规格。因其具备白度高，无杂质、铁量低等特点，故应用范围广。
石英粉分干法和水法两种生产方式，各种常规规格：120M，200M，260M，325M，600M,800M,1000M及2000M(M为目数)。另外也可按客户要求加工异型规格，要求粒度分布的一般也可加工。
用途：制造玻璃，耐火材料(炉料），冶炼硅铁，涂料，橡胶填料，冶金熔剂，陶瓷，研磨材料，金属表面处理等方面，在建筑中利用其有很强的抗酸性介质浸蚀能力，制取耐酸混凝土及耐酸砂浆。
石英粉分干法和水法两种生产方式:
1、干法生产石英粉，主要设备有磕石机、粉碎机、振动筛等。其工艺流程为石英石矿料经过磕石机加工成较小石料，石料再经过粉碎机加工砂粒，然后经过振动筛筛分，在筛分过程中利用磁铁棒和排磁铁除铁，然后分装完毕入库。
2、水法生产石英粉，主要设备有磕石机、石碾、烤房、振动筛、水路系统等。
其工艺流程大致如下：石英石矿料经过磕石机加工成较小石料，石料再经过石碾碾压成砂粒，碾压时不停的加水，水带着砂粒流入沉淀池内，再把沉淀池内的砂粒运入烤房烘烤成干砂粒，然后再经过振动筛筛分，在筛分过程中利用磁铁棒和排磁铁除铁，然后分装完毕入库。
优良的自然石英,经由过程怪异的低温处置工艺加工而构成的粉末,重钙粉使其份子布局分列由有序分列转为无序分列.其色白,纯度较高、活动机能好、并具备如下机能:
一、精良的光学性子:方石英的折射率从石英的1.55降低到1.48,更靠近PE、PP及一些树脂的折射率.夹杂后的树脂呈通明状,不粉饰颜料自己的色采,而用别的填料添补则会使颜料的色采变浅、失真.
二、反射率:方石英的详细布局有助光反射,可代替玻璃微珠作反光油漆,既可加强防滑性,又可进步油漆的反光性.
三、白度,低密度、光彩亮光:方石英的白度达95%以上,在涂料、油漆中使用,可代替部门钛白粉,低落配方本钱.
四、抗腐化,耐刻画、耐擦洗、耐磨机能好.
五、不含有机物净化,金属含量极低:可加强涂料的抗紫内线本领,并具备精良的绝缘性、精良的电磁辐射性和低的介电常数.
六、精良的抗热震性.方石英受热220m240℃左右时,产生必定水平的热收缩,恰好抵偿环氧树脂、石膏等在此温度下固化反响时的紧缩,使浇注体不变形.
七、极低的热收缩系数、抗积淀性好、抗腐化性好.
利用行业:电子质料、高功效环氧树脂、紧密锻造、电瓷、电子晶片打磨、抛光质料、珠宝行业、特种陶瓷质料、特种耐火质料、造纸、涂料油漆涂料、紧密模具、屏障质料行业,日用化工,粘合剂,塑料,PTC质料、航空、航天、齿科质料和硅橡胶等中填料,各种产业庇护涂料、木器、粉末涂料、油墨及其余功效性利用
优点：
1、显着提高抗压、抗折、抗渗、防腐、抗冲击及耐磨性能，显着延长砼的使用寿命，特别是在氯盐污染侵蚀、硫酸盐侵蚀、高湿度等恶劣环境下，可使砼的耐久性提高一倍甚至数倍。
2、具有保水、防止离析、泌水、大幅降低砼泵送阻力的作用。具有约5倍水泥的功效，在普通砼和低水泥浇注料中应用可降低成本。提高耐久性。
3、提高浇注型耐火材料的致密性，在与Al2O3并存时，更易生成莫来石相，使其高温强度，抗热振性增强。
从而被广泛应用于光学玻璃、电子封装、电气绝缘、陶瓷、油漆涂料、精密铸造、硅橡胶、医药、化装品、电子元器件以及超大规模集成电路、移动通讯、手提电脑、航空航天等生产领域。
硅微粉是由天然石英（SiO2）或熔融石英（天然石英经高温熔融、冷却后的非晶态SiO2）经破碎、球磨（或振动、气流磨）、浮选、酸洗提纯、高纯水处理等多道工艺加工而成的微粉。
微硅粉的细度：硅灰中细度小于1微米的占80%以上，平均粒径在0.1～0.3微米，比表面积为：20～28m²/g。其细度和比表面积约为水泥的80～100倍，粉煤灰的50～70倍。石英粉常用规格为400目，800目，1000目，1500目及2000目。
微硅粉的生产方法主要有：
，三氯氢硅法将干燥的硅粉加入合成炉中，与通入的干燥氯化氢气体在280～330℃有氯化亚铜催化剂存在下进行氯化反应，反应气体经旋风分离除去杂质，再用氯化钙冷冻盐水将气态三氯氢硅冷凝成液体，经粗馏塔蒸馏和冷凝，除去高沸物和低沸物，再经精馏塔蒸馏和冷凝，得到精制三氯氢硅液体。纯度达到7个“9”以上、杂质含量小于1×10-7，硼要求在0.5×10-9以下。提纯后的三氯氢硅送入不锈钢制的还原炉内，用超纯氢气作还原剂，在1050～1100℃还原成硅，并以硅芯棒为载体，沉积而得多晶硅成品。
第二，用SiO2含量大约为95%的硅石和灰分少的焦炭混合，加热到1900℃左右进行还原。此方法制得的硅纯度为97%～98%，被称作金属硅。再将金属硅融化后进行重结晶，用酸除去杂质，得到纯度为99.7%～99.8%的金属硅。如要将它做成半导体用硅，还要将其转化成易于提纯的液体或气体形式，再经蒸馏、分解过程得到多晶硅。如需得到高纯度的硅，则需要进行进一步的提纯处理。
第三， 用SiO2含量大约为95%的硅石和灰分少的焦炭混合，用1000～3000kVA开式电弧炉，加热到1900℃左右进行还原。
